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產(chǎn)品展示

Product display
  • TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺
    TMC研究級光學(xué)平臺 TMC的光學(xué)平臺和隔振系統采用全鋼結構,具有市場(chǎng)上最高的芯密度和最小的蜂窩單元面積,可提供業(yè)界*先的性能和剛性。 CleanTop性能系列具有三個(gè)阻尼性能級別以及適用于各種應用的多種配置選項。各個(gè)工作臺甚至可以機械連接,以便在不損失阻尼性能的情況下創(chuàng )建復雜的剛性工作臺形狀。
    更新時(shí)間:2024-06-18
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  • 主動(dòng)消振系統
    主動(dòng)消振系統
    Stage-Base 450是專(zhuān)為帶高精度電動(dòng)X(jué)-Y平臺的高級半導體工具而設計的主動(dòng)消振系統。這些工具不但需要極其有效的消振性能,它們還要求由平臺引起的有效載荷運動(dòng)能夠非??焖俚胤€定,以最大限度地提高工具吞吐量。
    更新時(shí)間:2024-06-17
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  • 氣浮綜合性主動(dòng)隔振系統
    氣浮綜合性主動(dòng)隔振系統
    氣浮綜合性主動(dòng)隔振系統 LaserTable-Base™是現有光學(xué)平臺隔振技術(shù)的一大飛躍。通常,光學(xué)平臺由低頻氣動(dòng)隔振系統支撐。雖然在隔離高頻方面非常有效,但這些被動(dòng)系統實(shí)際上放大了關(guān)鍵的1至3 Hz范圍內的振動(dòng)。
    更新時(shí)間:2024-06-17
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  • SEM主動(dòng)隔振平臺
    SEM主動(dòng)隔振平臺
    SEM主動(dòng)隔振平臺 SEM-Base-LP采用了我們*特的STACIS壓電技術(shù),具有與我們的行業(yè)標準SEM-Base-VI相同的振動(dòng)消除性能。SEM-Base-LP包括腳輪,專(zhuān)門(mén)設計用于與許多賽默飛世爾科技(前身為FEI)工具集成。
    更新時(shí)間:2024-06-17
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  • SEM主動(dòng)隔振平臺
    SEM主動(dòng)隔振平臺
    SEM主動(dòng)隔振平臺 SEM-Base®VI是下一代STACIS主動(dòng)壓電消振產(chǎn)品。SEM-Base VI被設計用于支撐所有商用掃描電子顯微鏡(SEM)以及許多聚焦離子束(FIB)和小型雙光束儀器。SEM-Base VI具有更好的隔振性能、更快、更強大的控制器和高級圖形用戶(hù)界面(GUI)。SEM-Base VI使許多實(shí)驗室和設施達到了滿(mǎn)足工具制造商規格所需的地面振動(dòng)水平。
    更新時(shí)間:2024-06-17
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  • TMC地面式主動(dòng)隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動(dòng)隔振光學(xué)平臺
    TMC地面式主動(dòng)隔振光學(xué)平臺,對于傳統的實(shí)驗室地面,隔離高大工具的建筑地面振動(dòng)是一個(gè)人體工程學(xué)領(lǐng)域的挑戰。將隔振器直接放置在工具下方可能會(huì )將工具抬高到一個(gè)不切實(shí)際的高度。此外,傳統空氣隔振器放置在一個(gè)較高、上重下輕的有效載荷之下時(shí)不穩定。
    更新時(shí)間:2024-06-17
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  • TMC地面式主動(dòng)隔振平臺
    TMC地面式主動(dòng)隔振平臺
    TMC地面式主動(dòng)隔振平臺 采用STACIS - TMC業(yè)界*先的主動(dòng)壓電消振技術(shù)、“硬安裝”設計和始于0.6 Hz的隔振與內置隔振器的工具兼容。 模塊化、定制和重新定位的靈活性 - 每個(gè)平臺都根據客戶(hù)的應用量身定做,但與混凝土平臺不同,如果工具或地面特性發(fā)生變化,這些平臺可以很容易地重新進(jìn)行配置。
    更新時(shí)間:2024-06-06
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  • TMC主動(dòng)隔振平臺
    TMC主動(dòng)隔振平臺
    TMC主動(dòng)隔振平臺 STACIS IIIc是STACIS III高級主動(dòng)隔振系統的緊湊型版本。它在減小的高度下提供了同樣出色的隔振性能。 STACIS IIIc非常適合在沒(méi)有或地板很低的活動(dòng)地板上使用,因為標準STACIS III系統的高度會(huì )使儀器過(guò)高。
    更新時(shí)間:2024-06-06
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